高纯金属溅射靶材(溅射靶)

sddy008 干货分享 2022-10-01 111 0

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磁控溅射靶材是按照什么来进行分类的?

靶材的分类方法很多.

根据材料的种类,靶材包括金属及合金靶材、无机非金属靶材和复合靶材等.

无机非金属靶材又分为氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同种类.

根据不同的几何形状,靶材分为圆靶和矩形靶.

目前最常用的分类方法则根据靶材的应用进行划分,主要包括半导体领域应用靶材、记录介质用靶材、显示薄膜用靶材、光学靶材、超导靶材等.

溅射靶材主要由什么构成?绑定背靶起到什么作用?

背靶绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来.主要有三种的方式:压接、钎焊和导电胶.靶材绑定常用钎焊,钎料常用In、Sn、In –Sn,一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/㎝

为什么要绑定背靶?

1、防止靶材受热不匀碎裂,例如ITO、SiO2、陶瓷等脆性靶材及烧结靶材;

2、节省成本,防止变形,如靶材太贵,可将靶材做薄些,绑定背靶以防止变形.

背靶的选择

1、中诺新材(北京)科技有限公司常用无氧铜,导电性好,无氧铜的导热性比紫铜好;

2、厚度适中,一般建议背靶厚度3mm左右.太厚,消耗部分磁强;太薄,容易变形.

绑定过程1、绑定前将靶材和背靶表面预处理

2、将靶材和背靶放置在钎焊台上,升温到绑定温度

3、将靶材和背靶金属化

4、粘接靶材和背靶

5、降温和后处理

什么是溅射靶材?

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。

溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏 、激光存储器、电子控制器件等,亦可应用于玻璃镀膜领域,还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

扩展资料:

注意事项:

保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。

为保持镀膜的成分特性,溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥,溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出,达到工艺所要求的真空度。

参考资料来源:百度百科-溅射靶材

关于《溅射靶》的内容今天先分享到这里,看完之后,相信对你有一定的帮助,最后要提醒各位,金融投资存在一定风险,要谨慎去操作

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